•品牌型号：Karl Suss Micro Tec Lithography GmbH MA6

•曝光光源：UV300  1000W汞灯

•光源波长：405 nm 和365 nm

•模板尺寸：支持 2.5英寸和5英寸掩膜板

•晶片尺寸：2-6英寸

•对准模式：正面和背面两种对准方式

•光源均匀性：<1%

•最小线宽：0.5μm

•对准精度：±0.5μm

•曝光方式：真空、低真空接触、硬接触、软接触、接近式接触和泛曝光

主要附件: 涂胶机；HP8热板；显影机，光学显微镜

紫外曝光机采用紫外光源，制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作下列器件结构：微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等，也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。