反应离子束刻蚀(RIE)
发布日期: 2015-06-09
型号:NRE-4000 
厂家:美国Nanomaster公司
技术指标:
反应气体:O2, Ar, CF4,CHF3
RF最大功率:600W
电极尺寸:240mm
刻蚀材料:氧化物、半导体、金属等
最大晶片尺寸:6英寸
主要功能及应用范围:
用于各种材料的离子束反应刻蚀,辅助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件与结构的制作,如:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件等,也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。